荷蘭SPARKNANO薄膜沉積研發(fā)機(jī)床LabLine 系列赫爾納供應(yīng)

荷蘭SPARKNANO薄膜沉積研發(fā)機(jī)床LabLine 系列赫爾納供應(yīng)，由赫爾納德國(guó)總部直接采購(gòu)，近30年進(jìn)口工業(yè)品經(jīng)驗(yàn),原裝產(chǎn)品,支持選型，為您提供一對(duì)一好的解決方案：貨期穩(wěn)定，快速報(bào)價(jià)，價(jià)格優(yōu)，設(shè)有8大辦事處提供相關(guān)售后服務(wù)。

公司簡(jiǎn)介：

SparkNano 是一家高科技產(chǎn)品公司，致力于空間原子層沉積工具 (Spatial ALD) 的設(shè)計(jì)和商業(yè)化，重新定義了工業(yè)規(guī)模的納米制造。

SparkNano 的 Spatial ALD 技術(shù)使其客戶能夠沉積薄的功能層，不僅提高性能并降低燃料電池、電池和太陽(yáng)能電池的制造成本，而且還解決了與有效利用稀缺材料相關(guān)的供應(yīng)鏈挑戰(zhàn)

荷蘭SPARKNANO薄膜沉積研發(fā)體制LabLine 系列產(chǎn)品介紹：

SparkNano 的 LabLine 系列提供行業(yè)的空間原子層沉積 （S-ALD） 系統(tǒng)，將薄膜質(zhì)量與快的沉積速度的靈活性相結(jié)合。這些的系統(tǒng)旨在支持廣泛的 S-ALD 工藝并適應(yīng)各種基板類型，使其成為研發(fā)、工藝開發(fā)、產(chǎn)品開發(fā)甚至試產(chǎn)線生產(chǎn)的理想解決方案。

此外，LabLine 系統(tǒng)具有可擴(kuò)展性，彌合了實(shí)驗(yàn)室研究和全面生產(chǎn)之間的差距，確保順利無(wú)縫地過(guò)渡到商業(yè)生產(chǎn)。LabLine 系統(tǒng)由幾個(gè)關(guān)鍵組件組成，每個(gè)組件都旨在為各種 S-ALD 應(yīng)用提供高性能和靈活性。這些組件可以根據(jù)特定的工藝要求進(jìn)行定制或升級(jí)，確保系統(tǒng)適應(yīng)您不斷變化的需求。

荷蘭SPARKNANO薄膜沉積研發(fā)體制LabLine 系列優(yōu)勢(shì)特點(diǎn)：

? 高速處理：在不到 10 分鐘的時(shí)間內(nèi)在硅晶片上實(shí)現(xiàn)高達(dá) 50 nm 的 Al?O?沉積，大大縮短了加工時(shí)間。

? 大型基板能力：支持大 420 mm x 300 mm 的基板，可提供定制尺寸，為各種應(yīng)用提供出色的可擴(kuò)展性和靈活性。

? 等離子體增強(qiáng)的靈活性：能夠在聚合物等溫度敏感材料上沉積，擴(kuò)大了可加工的材料范圍。

? 前驅(qū)體效率和成本降低：大的前驅(qū)體效率，加上回收未反應(yīng)的前驅(qū)體的能力，顯著減少了材料浪費(fèi)和運(yùn)營(yíng)成本。

荷蘭SPARKNANO薄膜沉積研發(fā)體制LabLine 系列主要規(guī)格：

? 基材類型：平面和多孔基板，包括晶圓、玻璃、金屬和聚合物箔

? 沉積溫度：熱 S-ALD 50°C – 250°C/等離子體增強(qiáng) S-ALD 50°C – 200°C

? 前驅(qū)體和共反應(yīng)物：前驅(qū)體：標(biāo)準(zhǔn)設(shè)置，多具有四個(gè)前驅(qū)體連接。共反應(yīng)物：H?O（標(biāo)準(zhǔn)）、等離子體（可選 O?、H?、O?）（可根據(jù)要求提供其他前驅(qū)體和共反應(yīng)物。

? 基板加載：手動(dòng)，通過(guò)兩個(gè)前廳（一個(gè)小，一個(gè)大）

? 免費(fèi)樣品區(qū)：大 420 毫米 x 300 毫米

? 系統(tǒng)尺寸：4.0 米（寬）x 3.6 米（深）x 2.1 米（高）